这事没法“低调”

中微半导体设备（上海）股份有限公司（下简称“中微”）董事长兼CEO尹志尧在网络上有两个身份，一个是“打破格局！颠覆核心技术！外企独霸的时代宣告结束！！巨头们彻夜无眠！”的震惊式“王炸”，一个是“埋头苦干，恳求媒体务实报道的”中国芯工程师。

前者，是去年媒体对尹志尧博士受访时一句“5纳米今年年底基本上就要定了，现在进展特别快”的疯狂渲染，所意淫出的一个宇宙级战士。后者，则是尹志尧博士口中的自己。

尹志尧（图片来源：红网）

在如今感叹号已经不值钱的年代，对中国半导体产业颇有贡献的尹志尧，真实的样子是什么呢？笔者将从官方介绍和相关专访资料中还原出来。

尹志尧出生于1944年，中学就读于久负盛名的北京四中，成绩优异，“学霸”级的存在。本科毕业于中科大，随后兰州炼油厂和中科院系统从事催化剂和反应器的研究和工业生产工作近十年。1978年，尹志尧选择继续深造，考入北京大学化学系。拿下化学硕士学位后，尹志尧又去大学洛杉矶分校，只用三年半时间就拿到了物理化学博士学位。

一路下来，将物理化学“盘”成了博士等级。所谓掌握数理化，走遍天下都不怕。此后，尹志尧开始了半导体行业打怪升级之路，“修仙地”就是硅谷，而且一干就是20年。

这20年里，尹志尧从工程师干到高管，先后在英特尔（技术发展中心，1984年加入）、泛林（Lam Research，引领了刻蚀技术的发展，1986年加入）、应用材料等半导体行业的国际巨头工作。且有13年是在应用材料公司任职，担任过公司副总裁、等离子体刻蚀设备产品事业群总经理、亚洲区采购副总裁、应用材料亚洲首席技术官等。

掐指一算，此时的尹志尧已到花甲之年，一般人年过60就开始盘算退休后的老年生活，甚至是广场舞的地盘之争，然而他选择了回国为祖国半导体事业做贡献。

回国之事，被一些媒体加以“英雄主义”渲染，一件留学生回国报效祖国的事情，变成了可与日月争辉的事件。而在2015年接受《财富中国》采访中，尹志尧表示：“60岁也就差不多年龄吧，而且很多5、60岁的人，都想一起回来干，那么再加上政府的推动。我们就决定在2004年回国做这个创业了。”

当时随尹志尧从硅谷回来的还有15人，尹志尧博士称中微的成就其实是大家共同的功劳。

一位昵称为“刘长铭”新浪博主在2012年写了一篇名为《我所认识的尹志尧》的博客，其中提到：“那时尹博士在微电子领域已经有了70多项国际发明专利，由于他在世界上属于半导体制造设备领域中的领军人物，掌握着许多关键技术，所以回来的过程颇费周折，甚至颇有风险。”

而这里的“风险”，伴随着中微的成长，许多故事也是有惊无险。

打官司的“老司机”

成立于2004年的中微，在2007年就掏出了第一代介质刻蚀机，在业内首次采用可单台独立操作的双反应台。此前，国内没有任何企业可以供应核心半导体制造设备，所需设备几乎全部依赖进口。

同时也就在那一年，尹志尧的老东家应用材料前来找茬，当年10月，将中微半导体告上了美国法庭，投诉其有窃密之嫌。为了证明自己的清白，中微聘请了美国一流的知识产权诉讼律师，花了两年半的时间，彻查了中微 600 多万件文件和 30 多人的电脑和文件，都没有找到关于应材的图纸，技术数据和商业机密，这个诉讼最终得到和解。

虽说身正不怕影子斜的中微不惧任何诉讼，但你抢别人的生意，撬人家市场，就会被针对。上一个官司还没和解，下一个官司又降临。

在2009年，另一巨头美国泛林研发在 2009 年在台湾状告中微的专利侵权。从结果来看，这起案件犹如秃子头上的虱子——明摆着的，但却就是那么难缠。起初只经过8个月，中微就取得了一审的胜利。但泛林继续上诉，法院又驳回，前前后后共重复四次。最后剧情反转，中微拿出证据告对方窃取，并在上海法院提出诉讼，最后取得诉讼的胜利。

虽说结局乐观，但从外界发出的第四次获胜的新闻稿时间来看，已经是2011年的12月29日了，官司一打就是近三年。

从04年成立到2011年年底，中微似乎并没有被官司扰乱心神，研发成果没被落下。除了刚刚提到的开山之作第一代介质刻蚀机之外，还有一些深硅刻蚀设备，MOCVD设备。下图截自《中微在科创板上市申请文件——第三轮审核问询函的回复》中公司历史研发项目的机台研发情况图。

此外，2011年10月，公司在大陆以外开设第一个研发中心，占地1800平方米的新设施位于台湾竹南，除研发外，该设施还用于中微先进刻蚀产品的最终测试和组装。2012年3月，中微半导体宣布Primo AD-RIE为中芯国际安装使用，主要用于32/28nm及以下工艺节点。

可以看出，中微是一面打着官司，一面搞着研发，本以为和应用材料、泛林交完手，从此岁月静好，但是你背负的使命感越强，找茬人就越多。

2017年LED设备厂商Veeco在美国纽约地方法院状告MOCVD石墨托盘供应厂商，认为他们给中微半导体提供的石墨托盘侵犯Veeco的专利。作为打官司的“老司机”，这一次中微没有听之任之，直接采取反制行动，向中国专利局与其他国家专利主管机构诉请Veeco的专利无效。

结果似乎很诡异，先是美方宣布对美国方面就先宣布对石墨托盘出货禁令，让中微无法获得供货，直到中微诉请 Veeco 的专利无效得到批准。随后中微在福建法院状告 Veeco 托盘锁定的设计侵权，最后福建高等法院也对Veeco 进口中国的 MOCVD 设备实施出货禁令。

对方最终妥协，同意与中微共享石墨托盘专利。

如今，2018年营收达到16.4亿元的中微，前段时间也开启了冲击科创板之路。

当危机已成习惯

从外界的报告资料来看，中微如今表现可圈可点，因为其一直专注为IC与LED领域客户提供服务，凭借其专精的行业深度，不仅吸引了诸如中芯国际、长江存储、三安光电等国内泛半导体龙头客户，其刻蚀设备更是进入了包括台积电、SK 海力士、联华电子、格芯等世界龙头企业。

但不得不承认与国际巨头的差距依旧很大。

譬如，The Information Network数据显示，前三大公司在 2017 年占据刻蚀设备总市场份额的 94%，近三年呈现进一步集中的趋势。中微只是在“其他”这一栏中小取一瓢。即便在招股说明书中，中微说自己“在国内刻蚀设备市场中有突出市场竞争力，近期两家国内知名存储芯片制造企业采购的刻蚀设备台数订单份额分别为15%和17%”。

招股说明书开篇就自认九大风险，分别是：研发投入不足导致技术被赶超或替代的风险；关键技术人员流失、顶尖技术人才不足的风险；下游客户扩产不及预期的风险；公司规模扩张带来的管理和内控风险；财务风险；知识产权争议风险；发行失败风险；市场竞争风险；国际贸易摩擦风险。

光从这风险名称中，就可以感受源源的压力。

如果你说没有什么压力是钱解决不了的，这句话没毛病，但做这行的，你知道钱多少才是够的呢？正如尹志尧在2015年接受采访时所说，在过去的10年，特别包括我自己在内，去想办法苦口婆心地说服各种有钱的投资商，包括政府机构、研发项目负责人，来支持我们，给我们经费。而别人一个研发总部一年半的研发经费（15亿），中微当时省吃俭用盘了10年。

在去年12月，中微的5nm等离子体刻蚀机宣布通过台积电验证，将用于全球首条5nm制程生产线，预计2020年量产。一切仍是那么值得期待。

在风险中寻找中国半导体企业的机会，中微估摸着已经习惯各种压力了。