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支持GLOBALFOUNDRIES 28纳米低功耗技术的参考流程

发布时间:2020-10-16 发布时间:
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    美国加州圣荷塞   芯片设计解决方案供应商微捷码(Magma(r))设计自动化有限公司(纳斯达克代码:LAVA)日前宣布,一款支持GLOBALFOUNDRIES 28纳米超低功耗(SLP)高K金属门(HKMG)技术的netlist-to-GDSII参考流程正式面市。这款签核就绪(sign-off-ready)的参考流程可与GLOBALFOUNDRIES的签核验证模块相集成,且通过利用Talus(r) IC实现系统独特的Talus Flow Manager(tm)和Talus Visual Volcano(tm)提供独特的可视化功能,还使得双方客户能够快速轻松地先输入现有设计、然后以28纳米SLP工艺对其性能进行分析并评估。不同于其它IC实现环境,Talus Flow Manager是随着Talus Vortex一起加入的这款流程,从而去除了对额外工具的投资需求。这款参考流程通过与微捷码和第三方工具协作,可自动化整个GLOBALFOUNDRIES的签核方法,确保了双方客户在工具选择上具有完善的灵活性。

    “风险最小化、性能最大化是28纳米节点IC实施公司的主要目标,”微捷码设计实施业务部总经理Premal Buch表示。“许多业界最高产无晶圆公司现已采用微捷码产品进行其28纳米IC的设计。采用这种全新参考流程和评估结果,客户现在对采用微捷码软件和GLOBALFOUNDRIES 工艺技术进行其下一代IC设计更有信心。”

    “随着设计师们考虑将那些下一代、功能丰富的移动类消费类产品提供上市,GLOBALFOUNDRIES的28纳米SLP技术提供了一款具有真正的功耗和性能优势的差异化平台,” GLOBALFOUNDRIES公司设计基础设施副总裁Andy Brotman表示。“我们很高兴能与微捷码合作提供一款签核就绪参考流程,通过利用Talus IC实现系统让客户能够在当今竞争激烈的市场环境中充满自信地进行设计并最大程度降低风险。”

    先了解再行动:Talus-Flow-Manager-Based Reference Flow

    支持GLOBABLFOUNDRIES 28纳米SLP工艺的Talus-Flow-Manager-Based Reference Flow是一款基于Talus Design、Talus Vortex和Talus Power Pro以及最新的ARM Artisan(r) 28纳米LP物理IP的集成化netlist-to-GDSII参考流程。Talus Design和Talus Vortex提供了一款先进的IC实现解决方案,可在布线期间同时执行时序优化,而不是在布局布线前后依次进行优化,从而可以更好的性能和可预测性提供更快的整体设计收敛。Talus Power通过集成化优化引擎,实现了一整套全面的低功耗设计方法。

    Talus Vortex内的Talus Flow Manager工具提供了一个即开即用netlist-to-GDSII设计流程,专为28纳米SLP工艺进行了调整,可提供最佳结果。Talus Flow Manager包括了一项经设计可帮助设计师以更快速度制定出更好决策的技术——Talus Visual Volcano。Talus Visual Volcano分析环境提供了一个集成化信息界面,使得工程师能够快速追踪许多的设计参数,包括运行时间、时序、功耗和面积;简化了对当前有效情景与报告情景对比的控制并可同时显示所有情景的结果,从而使得多模多角设计管理工作更为轻松; 通过将这类数据整合到HTML图表中,它还去除了对繁琐日志文件和文本报告的分析工作,帮助设计师节省了时间并改善了效率。电路模块设计者、芯片集成者或设计管理者现在都能以一种通用格式进行所有的交流并作为一个团队制定出更好的决策。

    Talus Power Pro支持低功耗设计所需的所有功率优化技术, 包括多电压域,实现了性能、面积和功耗间最好权衡;时钟门控,实现了动态功耗降低。Talus Power Pro支持统一功率格式(UPF)和通用功率格式(CPF)标准规格。Talus Flow Manager轻松即可与微捷码微捷码的Tekton(tm)、QCP(tm)和Quartz(tm) DRC/LVS产品相集成。

 

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