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国产LED生产设备将亮相秋季中国电子展

发布时间：2021-01-08

两家LED和太阳能生产设备巨头今年二季度的财报相信会让国人暗生艳羡却又很不是滋味:Veeco Instruments 2010年第二季度的营收达2.53亿美元.与2009年同期相比年增251.4%;Aixtron 2010年第二季度的营收达1.918亿 ...<全部>

电源应用

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用于相变存储器的GeSbTe MOCVD共形淀积

发布时间：2020-10-30

为了达到PCM改进高性能/高密度发展进程中的下一个里程碑.正在采用的一个途径是在截面尺寸10-100nm的高深宽比器件单元中.用共形淀积工艺约束PCM材料(即GST).通过同时寻址多个单元.并以改进热隔离和允许高密度集成 ...<全部>

其他资讯

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33

我国LED芯片市场:2020年需求规模将近175亿元

发布时间：2020-10-19

中国LED芯片市场从2009年供不应求到了2010年基本供求平衡.2011年出现供过于求.2012年已经严重供过于求.到2013年的调整阶段.预计2014年以后受下游市场需求的驱动.LED芯片需求将会开始进入稳定增长.行业进行 ...<全部>

电源应用

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LED芯片
MOCVD

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MOCVD技术在光电薄膜中的应用

发布时间：2020-08-03

导读:MOCVD技术在半导体材料和器件及薄膜制备方面取得了巨大的成功.尽管如此.MOCVD仍是一种发展中的半导体超精细加工技术.MOCVD技术的进一步发展将会给微电子技术和光电子技术带来更广阔的前景.一.引言近年来. ...<全部>

显示技术

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LED芯片制造设备现状及其工艺介绍

发布时间：2020-07-29

LED是技术引导型产业.特别是技术与资本密集型的芯片制造业.需要高端的工艺设备提供支撑.但与半导体投资热潮下的[瓶颈"类似.设备研发与产业膨胀仍然存在着速度匹配的问题.尤其是在高端设备领域.大部分设备仍然 ...<全部>

显示技术

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纳米技术向高亮LED技术性问题发起挑战

发布时间：2020-07-29

高亮LED在朝高质量低成本的大规模量产过程中遇到了一些技术性的挑战.这为突破性的方案创造了良好的机会.特别是对那些具[突破性思维"的初创公司来说.他们正在尝试一些有趣的纳米技术方案.创新的重要方面在于材料 ...<全部>

显示技术

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146

用于相变存储器的GeSbTe MOCVD共形淀积

发布时间：2020-07-02

为了达到PCM改进高性能/高密度发展进程中的下一个里程碑.正在采用的一个途径是在截面尺寸10-100nm的高深宽比器件单元中.用共形淀积工艺约束PCM材料(即GST).通过同时寻址多个单元.并以改进热隔离和允许高密度集成 ...<全部>

模拟电路设计

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Aixtron论MOCVD大势:未来将现全方位竞争

发布时间：2020-07-01

德国爱思强股份有限公司(AixtronAG)是世界上最大的MOCVD设备供应商.有很大的研发中心.目前主要产品都是基于气相沉淀系统.除了在LED领域应用比较多的MOCVD之外.还有三英寸的CVD和AVD的成机设备.除了半导体设备 ...<全部>

工艺设备

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中科院半导体所国内首台48片MOCVD样机取得突破

发布时间：2020-07-01

在中国科学院和广东省共同支持下.由中科院半导体研究所负责研制开发的国内首台48片MOCVD样机取得重大进展. 样机不仅经过了真空.压力.温度.旋转.自动传输等一系列设备性能指标实验考核.还进行了氮化镓以及 ...<全部>

工艺设备

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MOCVD

136

用于相变存储器的GeSbTe MOCVD共形淀积

发布时间：2020-06-23

为了达到PCM改进高性能/高密度发展进程中的下一个里程碑.正在采用的一个途径是在截面尺寸10-100nm的高深宽比器件单元中.用共形淀积工艺约束PCM材料(即GST).通过同时寻址多个单元.并以改进热隔离和允许高密度集成 ...<全部>

集成电路

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