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MOCVD技术在光电薄膜中的应用

 发布时间：2020-08-03
导读:MOCVD技术在半导体材料和器件及薄膜制备方面取得了巨大的成功.尽管如此.MOCVD仍是一种发展中的半导体超精细加工技术.MOCVD技术的进一步发展将会给微电子技术和光电子技术带来更广阔的前景.一.引言近年来. ...<全部>
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LED芯片制造设备现状及其工艺介绍

 发布时间：2020-07-29
LED是技术引导型产业.特别是技术与资本密集型的芯片制造业.需要高端的工艺设备提供支撑.但与半导体投资热潮下的[瓶颈"类似.设备研发与产业膨胀仍然存在着速度匹配的问题.尤其是在高端设备领域.大部分设备仍然 ...<全部>
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纳米技术 向高亮LED技术性问题发起挑战

 发布时间：2020-07-29
高亮LED在朝高质量低成本的大规模量产过程中遇到了一些技术性的挑战.这为突破性的方案创造了良好的机会.特别是对那些具[突破性思维"的初创公司来说.他们正在尝试一些有趣的纳米技术方案.创新的重要方面在于材料 ...<全部>
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用于相变存储器的GeSbTe MOCVD共形淀积

 发布时间：2020-07-02
为了达到PCM改进高性能/高密度发展进程中的下一个里程碑.正在采用的一个途径是在截面尺寸10-100nm的高深宽比器件单元中.用共形淀积工艺约束PCM材料(即GST).通过同时寻址多个单元.并以改进热隔离和允许高密度集成 ...<全部>
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Aixtron论MOCVD大势:未来将现全方位竞争

 发布时间：2020-07-01
德国爱思强股份有限公司(AixtronAG)是世界上最大的MOCVD设备供应商.有很大的研发中心.目前主要产品都是基于气相沉淀系统.除了在LED领域应用比较多的MOCVD之外.还有三英寸的CVD和AVD的成机设备.除了半导体设备 ...<全部>
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中科院半导体所国内首台48片MOCVD样机取得突破

 发布时间：2020-07-01
在中国科学院和广东省共同支持下.由中科院半导体研究所负责研制开发的国内首台48片MOCVD样机取得重大进展. 样机不仅经过了真空.压力.温度.旋转.自动传输等一系列设备性能指标实验考核.还进行了氮化镓以及 ...<全部>
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用于相变存储器的GeSbTe MOCVD共形淀积

 发布时间：2020-06-23
为了达到PCM改进高性能/高密度发展进程中的下一个里程碑.正在采用的一个途径是在截面尺寸10-100nm的高深宽比器件单元中.用共形淀积工艺约束PCM材料(即GST).通过同时寻址多个单元.并以改进热隔离和允许高密度集成 ...<全部>
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中微公司推出低成本高产能的MOCVD设备.首次进入半导体照明市场

 发布时间：2020-06-20
上海2013年3月14日电 /美通社/ -- 在下周即将举行的 SEMICON China 展会期间.中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称[中微")将正式发布多反应器金属有机化合物气相沉积设备(MOCVD).并首次进入半导体照明市场 ...<全部>
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LED芯片制造设备现状及其工艺介绍

 发布时间：2020-06-20
LED是技术引导型产业.特别是技术与资本密集型的芯片制造业.需要高端的工艺设备提供支撑.但与半导体投资热潮下的[瓶颈"类似.设备研发与产业膨胀仍然存在着速度匹配的问题.尤其是在高端设备领域.大部分设备仍 ...<全部>
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韩国两大电子集团LED扩厂计划喊停

 发布时间：2020-06-20
据LEDinside.近日.业内人士透露.韩国两大电子集团的LED扩厂计划喊停.原订600台MOCVD机台大降到150台就停止采购. 韩国两大电子集团原本看好LEDTV.2010年初就喊出200台的扩产计划.但由于需求不如预期.加上 ...<全部>
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