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美光内存采用铜取代铝导线生产商 冲击设备市场

发布时间:2020-06-01 发布时间:
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  市场研究机构The Information Network总裁Robert Castellano指出,内存组件转向采用铜导线(copper interconnect)的趋势在2009年达到高峰,因此尽管当年整体半导体设备产业销售业绩衰退达40%以上,其中与铜导线直接相关的设备业绩却仅衰退8.7%。

  Castellano表示,2006年底,美光(Micron)成为首家采用铜取代铝导线生产商用DRAM的厂商,一年之后日商尔必达(Elpida)也跟进;之后,以三星电子(Samsung Electronics)为首的所有内存供货商,都大笔投资将晶圆厂设备升级至铜制程。此趋势影响了2009年度的铜沉积设备与材料的销售数量,也对传统铝制程设备的销售造成冲击。

  The Information Network并认为,内存转向铜制程的趋势,将在2011年对几乎所有的半导体设备类别市场产生影响。

  传统铝导线制程所使用的设备,是在上述趋势中受到最明显冲击的部份;例如用以沉积未掺杂硅玻璃(USG)与已掺杂硅玻璃(包括磷化与氟化硅玻璃,PSG/FSG)薄膜的高密度电浆化学气相沉积(HDPCVD)设备,在2009年的整体营收就减少72%之多;另外金属蚀刻(Metal-etch)设备营收的衰退幅度也差不多。

  将铜整合到内存组件中,所遭遇的挑战与已经使用铜材料很久的逻辑组件完全不同;因为包括DRAM与闪存等应用广泛的组件,都有高长宽比(aspect ratios)、小关键尺寸(critical dimensions),以及高敏感度线阻(high sensitivity to line resistance)的特性。

  物理气相沉积(PVD)设备市场的成长,对铜金属阻障(copper barrier metal)层的沉积影响不小──通常是Ta/TaN或TiN迭层;然而,这种技术的转移对内存来说却是挑战重重。

  当制程不断微缩,较薄的金属阻障层需要在镶嵌结构(damascene structure)使用最大量的铜,并维持有效的阻抗。超薄的金属阻障层则须完成阶梯式覆盖率(step coverage)、密度以及高长宽比的沟槽/孔洞形态最佳化。

  “内存产业转向采用铜制程,对化学机械研磨液与研磨垫业务也产生严重冲击;”Castellano表示:“最终这样的趋势将会维持平缓稳定,而铜制程所使用的消耗品业绩,也将重新贡献整体化学机械研磨与半导体设备市场。”

关键字:美光  内存  铜导线  设备


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