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FEOL
FEOL就是制程的前道，形成Device
feol特指那些形成活性电性部件之前的生产步骤。在这些步骤中，晶片表面尤其是mos器件的栅区域，是暴露的、极易受损的。在这些清洗步骤中，一个极其关键的参数是表面粗糙度。过于粗糙的表面会改变器件的性能，损害器件上面沉积层的均匀性。表面粗糙度是以纳米为单位的表面纵向变差的平方根（nmrms）。
feol特指那些形成活性电性部件之前的生产步骤。在这些步骤中，晶片表面尤其是mos器件的栅区域，是暴露的、极易受损的。在这些清洗步骤中，一个极其关键的参数是表面粗糙度。过于粗糙的表面会改变器件的性能，损害器件上面沉积层的均匀性。表面粗糙度是以纳米为单位的表面纵向变差的平方根（nmrms）。
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