ASML整合微影方案获意法采用
受惠于晶圆代工与DRAM厂推出先进制程.对浸润式显影机台需求大增.让半导体设备大厂艾斯摩尔(ASML)2010年接单畅旺.随著半导体制程推进5x奈米以下先进制程.制程复杂度大增.亦需加紧提高量良率.让ASML甫于2009年推

光刻机是怎么雕刻出远远小于自己波长的线宽的？
线宽(linewidth)是光学专有名词. 波长λ=193nm 那线宽指的就是Δλ一般是几个到几十个波数(记不清了). 我知道题目的意思是.193nm 这么宽.怎么能刻出 45nm 的宽度呢. 他说的是分辨率.其他答主讲了很多.我简单

半导体设备业研发经费拮据 联盟关系成救星
市场研究机构Gartner警告.半导体设备产业的研发预算恐怕在接下来的五年内大幅削减80亿美元.使该产业领域陷入危机.不过该机构资深分析师Dean Freeman也表示.研发联盟的兴起将成为救星. 缺乏适当的投资将导

工艺设计引导电子洁净厂房整体设计
随着科学技术的日新月异.电子产品及其生产技术发展十分迅速.以集成电路为代表的微电子产品的更新换代尤为显著.集成电路产品基本上2-3年就会更新一代产品;以TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)为代表的平板显示器正

SEMI 发布芯片设备产业年中预测报告
2011年半导体设备销售额预计将达到443亿美元 加利福尼亚.旧金山.2011年7月12日--在一年一度的 SEMICON WEST展会上.SEMI(国际半导体设备材料产业协会)发布了SEMI资产设备年中预测报告.根据SEMI报告.2011年

光刻设备交货延期推迟DRAM 40纳米战局
全球DRAM产业40纳米大战出现变量.由于浸润式机台(Immersion Scanner)递延交货之故.瑞晶已松口表示.原本计划年底前旗下8万片12寸晶圆产能要全转进45纳米制程的目标.将正式递延至2011年第1季.其第1台浸润式机台本

ASML：预计2015年可发布首款量产型EUV机台
极紫外光(EUV)微影技术将于2015年突破量产瓶颈.传统浸润式微影技术在半导体制程迈入1x纳米节点后将面临物理极限.遂使EUV成为产业明日之星.设备供应商艾司摩尔(ASML)已协同比利时微电子研究中心(IMEC)和重量