条状过孔-EDA365

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传统过孔数显著增加条状过孔成大势所趋

发布时间：2020-07-08

摘要:对于28纳米及以下节点.选择和放置多种过孔类型的复杂要求对LEF/技术文件的绕线构成了挑战.导致设计规则检查 (DRC) 错误增多(需要耗费时间来调试和改正).最终影响了良率和性能.对于28纳米及以下节点. ...<全部>

模拟电路设计

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传统过孔数显著增加条状过孔成大势所趋

发布时间：2020-06-23

摘要:对于28纳米及以下节点.选择和放置多种过孔类型的复杂要求对LEF/技术文件的绕线构成了挑战.导致设计规则检查 (DRC) 错误增多(需要耗费时间来调试和改正).最终影响了良率和性能. 对于28纳米及以下节 ...<全部>

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一颗引发行业变革的红外芯片

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