官方消息，中芯国际继3月1日获得美国成熟工艺设备供应许可后，再次迎来好消息：中芯国际与ASML修订了总额为12亿美元（约合人民币77.6亿元）的光刻机批量采购协议。

根据3月3日晚间，中芯国际公告披露，公司于2月1日与阿斯麦（ASML）上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议，将采购协议的期限延长一年至2021年12月31日。根据批量采购协议，公司已就购买用于生产晶圆的阿斯麦产品（即光刻机）与阿斯麦集团签订购买单，订单金额12亿美元。

来源：中芯国际

业内非常关注该协议中是否包含EUV光刻机？大家知道，中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV光刻机设备就必不可少。而ASML的EUV光刻机当前主力出货型号是3400B，价格约1.2亿美元，其最新款的3600D定于2021年出货交付。

中芯国际本次公告并未就光刻机具体型号进行披露，但本次修订的订单或并不包括EUV光刻机。在2020年年底，中芯国际被美国列入实体清单时，美国商务部就特别明确，将原则上拒绝向其出口EUV等支持先进制程开发的技术。美国在2021年3月1日最新宣布的中芯国际设备的供应许可并不包括EUV光刻机。

且有业内资深人士透露，除了EUV光刻机，中芯国际几乎可以买到其他所有型号的光刻机，包括DUV（深紫外）光刻机。

此前，ASML的CFO在财报会议的视频采访中表示：如果宽泛地理解相关规则对AMSL的整体意义，ASML将能够从荷兰向中国客户（包括中芯国际）提供DUV光刻系统，且无需出口许可证。不过，如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统，ASML则需要为此申请出口许可证。

在DUV光刻机方面，ASML的最新一代产品型号是NXT 2050i。公开资料显示，ASML于2020年第三季度对第一台TWINSCAN NXT 2050i进行了质量认证，并于第四季度初发货。由于对掩模版工作台、晶圆工作台、投影物镜和曝光激光器的技术改进，NXT2050i提供了比其前身更好的套刻精度控制，具有更高的生产率。

公开报道显示，ASML的上一代DUV产品NXT2000i光刻机，光刻精度可以达到1.9nm，远低于5nm要求的2.4nm以及7nm的3.5nm精度。

不过，考虑到EUV光刻机对于研发和生产先进制程芯片的重要性，传言中芯国际也没有就此放弃。此前业界有消息称，中芯国际在新任副董事长蒋尚义的"牵线下"，已经开始对EUV设备再次进行洽谈，但中芯国际并未对此作出官方回应，具体情况如何尚不得知。可以确定的是目前美国芯片禁令虽已有所松绑，但对象仅针对成熟制程芯片技术（14纳米及以上），EUV光刻机的获取仍是敏感话题。