×
研发资源 > 标签 > 10nm节点
|相关应用领域

多重图案微影技术的未来发展前景

 发布时间：2020-06-02
曾经.我花了大量时间谈论双重图案微影技术.我认为是时候开始展望多重图案微影的发展前景了(不要惊慌!).正如您可能听过或者读过的一样.极紫外光微影(EUV Lithography)技术似乎赶不上10nm节点的进度.甚至无法 ...<全部>
  • 188
上一个 下一个
|最新活动
Ecosmos携手第二十六届高交会，开启元宇宙展会新纪元

Ecosmos携手第二十六届高交会，开启元宇宙展会新纪元
|相关标签
|热门文章
多重图案微影技术的未来发展前景

技术

硬件开发 EMC IC封装设计 射频RF 单片机IMCU 信号完整性 FPGA 电源 PCB设计 物联网 PCB工艺 PCBA

阅读

电子汇 最新资讯 EDA365原创吧

资源

公开课 研讨会 在线计算器

互动

论坛 外包
电巢APP下载电巢APP下载
关于我们 ｜ 手机版 ｜ EDA365电子论坛网 (粤ICP备18020198号)
GMT, 2020-03-13 09:00 , Processed in 0.109375 second(s), 13 queries , Gzip On.