ALD-EDA365

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ALD技术在未来半导体制造技术中的应用

发布时间：2020-09-07

由于低温沉积.薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点.ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造.DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术.但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的 ...<全部>

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半导体制造
ALD

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五大能力领跑ALD领域.ASM深度推进中国本土化战略

发布时间：2020-05-27

全球半导体产业在经历了2015与2016两年低谷后.受存储芯片需求的带动.重回景气周期.半导体设备市场的波动幅度大于下游市场.据统计.2017年半导体设备营收同比增长35.7%.达到559.3亿美元.因此相关半导体设备厂商 ...<全部>

工业自动化

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ALD中射频阻抗匹配器的设计与研究

发布时间：2024-11-02

摘要:阐述原子层沉积系统(ALD)中射频阻抗匹配器的设计方案.利用ADS软件对阻抗匹配网络进行仿真.通过分析ALD真空腔室内等离子体产生前后的负载阻抗变化.结合仿真结果.提出等离子体产生过程中阻抗匹配网络的控制 ...<全部>

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