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芯片毁于噪声:FinFET使噪声效应叠加

 发布时间：2024-11-03
FinFET技术已经成为工艺尺寸继续减小的主要动力.[在可预见的未来.极低的工作电压与漏电流使得FinFET工艺成为CMOS工艺的标准架构." ANSYS应用工程高级总监Arvind Shanmugavel说道.[但上述优点是有代价的-电源噪声问题变得突出. ...<全部>
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