研发资源 > 标签 > 凸版EUV
|相关技术

EUV光刻机技术研发开花结果!日本凸版EUV光掩模正式出货

 发布时间：2020-06-08
为了展现日本凸版印刷 Toppan 全力以赴支持中国半导体产业发展的决心.第一届[凸板光掩模技术论坛 Toppan Technology Forum"正式在上海登场.凸版 Toppan 更表示.已经出货超过 300 个测试用的 EUV 光掩模.未来芯片 ...<全部>
  • 66
上一个 下一个
|最新活动
一颗引发行业变革的红外芯片

一颗引发行业变革的红外芯片
|相关标签
|热门文章
EUV光刻机技术研发开花结果!日本凸版EUV光掩模正式出货

技术

硬件开发 EMC IC封装设计 射频RF 单片机IMCU 信号完整性 FPGA 电源 PCB设计 物联网 PCB工艺 PCBA

阅读

电子汇 最新资讯 EDA365原创吧

资源

公开课 研讨会 在线计算器

互动

论坛 外包
电巢APP下载电巢APP下载
关于我们 ｜ 手机版 ｜ EDA365电子论坛网 (粤ICP备18020198号)
GMT, 2020-03-13 09:00 , Processed in 0.109375 second(s), 13 queries , Gzip On.