研发资源 > 标签 > 化学机械研磨
|相关技术

观胜半导体CMP用抛光垫国产化项目落地

 发布时间：2020-06-01
本报讯 日前.由张家港以诺天使源投资企业.梵尔辰半导体(上海)和台湾智胜科技三方合资成立的苏州观胜半导体科技有限公司.在苏州张家港保税区揭牌开业运营.正式宣布就集成电路化学机械研磨(CMP)用抛光垫项目展 ...<全部>
  • 35
上一个 下一个
|最新活动
一颗引发行业变革的红外芯片

一颗引发行业变革的红外芯片
|相关标签
|热门文章
观胜半导体CMP用抛光垫国产化项目落地

技术

硬件开发 EMC IC封装设计 射频RF 单片机IMCU 信号完整性 FPGA 电源 PCB设计 物联网 PCB工艺 PCBA

阅读

电子汇 最新资讯 EDA365原创吧

资源

公开课 研讨会 在线计算器

互动

论坛 外包
电巢APP下载电巢APP下载
关于我们 ｜ 手机版 ｜ EDA365电子论坛网 (粤ICP备18020198号)
GMT, 2020-03-13 09:00 , Processed in 0.109375 second(s), 13 queries , Gzip On.