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盛美开发出十二英寸单片兆声波清洗设备

发布时间：2020-05-26

2009年3月17日.新成立的盛美半导体(上海)有限公司今天在中国半导体国际展上展出了十二英寸单片兆声波清洗设备.本设备用于65 nm技术节点以下的十二英寸高端硅片清洗.盛美独家具有自主知识产权技术可使兆声波能量 ...<全部>

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