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台积电:先进制程的挑战在曝光与平坦化技术

发布时间：2020-05-16

芯片走向极小化.多任务.高效能且低价的态势已不可改变.在后摩尔定律时代.芯片走向20nm.甚至14nm和10nm制程技术.曝光技术将是驱动半导体业成长的关键.而其他如制程.设备.和材料也将扮演着相当关键角色.台积 ...<全部>

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