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EUV微影在5nm时出现随机缺陷.目前无解

 发布时间：2020-06-08
极紫外光微影(EUV)技术据称将在5纳米(nm)节点时出现随机缺陷.根据研究人员指出.目前他们正采取一系列的技术来消除这些缺陷.不过.截至目前为止.还没有找到有效的解决方案.这项消息传出之际.正值格芯(Globalfou ...<全部>
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