×
电子设计创新企业Cadence设计系统公司宣布，公司已经与晶圆厂中芯国际公司合作，开发一种兼容最新版Cadence® Virtuoso®定制设计平台的混合信号参考流程与工艺设计工具包（PDK）。该参考流程与PDK目前已经推出，面向使用混合信号芯片进行SMIC 130纳米工艺设计的共同客户。
“与Cadence的合作帮助我们朝着目标加速前进，帮助中国的半导体市场继续发展，”SMIC设计服务部高级主管David Lin说，“作为混合信号设计解决方案的领先企业，Cadence已经提供了它独特的技术与专业性用于该参考流程的设计。这种解决方案将有助于促进模拟混合信号设计，满足不断发展的消费电子、网络与无线设备市场需求。”
这种混合信号参考流程基于SMIC的130纳米混合模式、射频PDK与Cadence Virtuoso和可制造性设计技术。它为设计团队提供了一种参考设计环境、基线流程以及一个设计样例，展示设计师应如何成功使用SMIC工艺技术和Cadence Virtuoso IC 6.1平台。此经过优化的、可预测的从原理图到GDSII的流程，为设计团队提供出色的指导，让他们创建SoC或开发自己的流程。
“RF/混合信号设计对于经认证的130纳米PDK的需要是显而易见的，”Cadence定制IC平台部门主管Sandeep Mehndiratta说，“SMIC的流程与PDK对我们Virtuoso IC 6.1技术的支持提供了一个强大的组合，帮助我们的共同客户解决当今混合信号设计存在的问题。”
『本文转载自网络,版权归原作者所有,如有侵权请联系删除』
热门文章
更多
明导科技工具被纳入台积电16纳米FinFET制程技术参考流程
APP下载
登录
