7nm制程-EDA365

研发资源 > 标签 > 7nm制程

|相关技术

查看更多 >>

摆脱摩尔定律的桎梏.7nm芯片即将到来

发布时间：2020-06-20

科技的发展速度远比我们想象中的要快.2017年处在领先地位的14nm制程工艺芯片即将成为过去.近日三星官方宣布.三星电子已经研发出了下一代11nm制程工艺的芯片.当然.今年的旗舰级10nm制程工艺芯片也将在明年[落伍" ...<全部>

技术百科

|

高通
7nm制程

78

腥风血雨晶圆市场强者生存

发布时间：2020-06-16

目前市面上使用的芯片大多只是10nm制程.而在更小的制程中.已经又掀起了一番腥风血雨.由于制程不断微缩.传统的微影技术已经达到极限.无法解决更精密的曝光显像需求.只有改用保障更短的EUV(极紫外光刻).才能 ...<全部>

技术百科

|

194

AMD透露Zen2处理器的信息:7nm制程

发布时间：2020-06-06

AMD在本周公布了2017财年第四季度及全年财报.报告显示AMD业绩突飞猛进.令人兴奋的是.AMD CEO苏姿丰博士还在财报分析师会议上透露了关于Zen2处理器的信息. 苏姿丰博士指出.AMD正继续解决Spectre和Meltdown漏洞 ...<全部>

技术百科

|

amd
7nm制程

50

格罗方德宣布7nm制程 2018 年初推出并于当年年底量产

发布时间：2020-06-03

电子据全球第二大晶圆代工厂商 GLOBALFOUNDRIES(格罗方德半导体)于 14 日宣布.将推出其具有 7 奈米制成领先性能(7LP.7nm Leading-Performance)的 FinFET 制程技术.其 40% 的跨越式性能提升将满足诸如高阶移动 ...<全部>

半导体生产

|

182

海思.比特大陆.寒武纪都将采用台积电7nm制程

发布时间：2020-06-03

包括比特大陆.海思及寒武纪等都将在下半年导入台积电的7nm制程.三家公司已经成为中国新生代IC设计公司的代名词.专攻AI运算芯片的寒武纪上周发布2款AI芯片.包括Cambricon MLU100云端智能芯片和板卡产品.以及寒武 ...<全部>

半导体生产

|

16

满足10nm-7nm制程巴斯夫嘉兴工厂电子级硫酸装置投入运营

发布时间：2020-06-03

全球领先的化工公司巴斯夫5月30日宣布.其位于浙江嘉兴的新建电子级硫酸装置正式投入运营.将主要服务于国内日益增长的半导体制造行业.据悉.巴斯夫嘉兴工厂一期可生产12000吨电子级硫酸.今年年底投产的二期项目将 ...<全部>

半导体生产

|

118

传海思麒麟980本季度量产,采用台积电7nm制程

发布时间：2020-05-29

业界最新传出.台积电7nm制程获得华为海思麒麟980肥单.本季开始量产,海思内部则对此一传言不予证实.业界人士分析.三星在7nm制程直接进展到极紫光(EUV)版本.由于是业界首度采用EUV机台.在设备调教及制程研发上 ...<全部>

半导体生产

|

8

中芯国际今年将投资7nm工艺问世或2020年之后

发布时间：2020-05-29

国内把半导体技术作为重点来抓.首先要突破的是3D NAND闪存.这方面主要是长江存储科技在做.而在芯片制造工艺方面.国内比Intel.三星.TSMC落后的更多.这方面追赶还得看SMIC中芯国际.日前中芯国际CEO邱慈云表态 ...<全部>

半导体生产

|

143

三星电子砸近70亿美元新建7mn厂

发布时间：2020-05-28

南韩媒体etnews报导.半导体业界人士透露.三星电子高度期待2018年商业化7nm制程.目前已在京畿道华城市Line 17厂旁停车场空地6.开始新建专用厂房. 这块土地面积仅现有Line 17厂的4分之1.但华城厂区没有其他空地 ...<全部>

半导体生产

|

4

EUV微影前进7nm制程.5nm仍存在挑战

发布时间：2020-05-27

EUV微影技术将在未来几年内导入10奈米(nm)和7nm制程节点.不过.根据日前在美国加州举办的ISS 2018上所发布的分析显示.实现5nm芯片所需的光阻剂仍存在挑战.极紫外光(extreme ultraviolet,EUV)微影技术将在未来几 ...<全部>

半导体生产

|

7nm制程
5nm

10

上一个下一个

第26届高交会元宇宙完美收官，数字化参会体验引爆全场

第26届高交会元宇宙完美收官，数字化参会体验引爆全场

|相关标签

|热门文章

满足10nm-7nm制程巴斯夫嘉兴工厂电子级硫酸装置投入运营

海思.比特大陆.寒武纪都将采用台积电7nm制程

格罗方德宣布7nm制程 2018 年初推出并于当年年底量产

7nm制程.更强性能!高通骁龙845或让海思联发科压力倍增

EUV微影前进7nm制程.5nm仍存在挑战