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罗门哈斯电子材料与IBM合作开发32纳米和22纳米制程的CMP技术

 发布时间：2021-06-04
为半导体行业提供高级化学机械研磨(CMP)技术的罗门哈斯公司电子材料公司.继与IBM公司签署协议共同开发为32纳米以下制程的注入提供支持的电路图案成形(patterning)材料和工艺后.近日又宣布与IBM签署了另一项联合开 ...<全部>
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