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助力高级光刻技术:存储和运输EUV掩模面临的挑战

 发布时间：2020-05-29
随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限.极紫外 (EUV) 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中.对于 7 纳米及更小的高级节点.EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术.要在如此精细的尺寸下 ...<全部>
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