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赛斯纯气体公司宣布在中国引入对光刻设备检验的微污染物检验服务

发布时间：2021-01-12

赛斯纯气体有限公司作为一家气体净化技术设备的世界领导者和供应商日前在2009年国际半导体设备与材料展览会上, 正式宣布引入微污染物检验服务和CollectTorr取样系统, 用于对在中国的光刻和测量设备提供检验.本 ...<全部>

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ASML一体化光刻解决方案延续摩尔定律

发布时间：2020-07-01

ASML集团公司(ASML Holding NV) 在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备.让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸.FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技 ...<全部>

工艺设备

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IC设备国产化多点突破二手市场寻求整合

发布时间：2020-07-01

[工欲善其事.必先利其器."集成电路产业的发展离不开装备制造业的支撑.而装备业的发展水平也是衡量一个国家集成电路产业总体水平的重要标准.近年来.我国集成电路装备业取得了长足的进步.12英寸设备在多个工序实 ...<全部>

工艺设备

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32nm制程用沉浸光刻设备客户需求量剧增

发布时间：2020-07-01

据荷兰ASML公司高管透露.由于最近半导体厂商对沉浸式光刻设备的需求量剧增.著名光刻厂商ASML公司最近重新召回了先前辞退的700名员工.同时还招聘了数百名新员工.这名高管表示ASML公司还需要再增加300名员工.同 ...<全部>

工艺设备

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英特尔将花15亿美元采购光刻设备

发布时间：2020-07-01

据业界分析人士称.Intel 2011年在光刻技术设备方面的支出预计可达15亿美元左右. 巴克莱资本(Barclays Capital)指出.32nm工艺节点上.日本尼康是Intel光刻设备的唯一供应商.不过到了下一代22nm工艺.荷兰ASML ...<全部>

工艺设备

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英特尔
光刻

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光刻技术--半导体工业的[领头羊"

发布时间：2020-06-16

半导体工业的[领头羊"是谁?历数过来.这个桂冠无疑是属于光刻技术的.历经50年.集成电路已经从60 年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10 亿个器件.在摩尔定律的指引下,半导体技术的集成 ...<全部>

技术百科

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放大器
光刻

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中科院研制中紫外直接光刻设备取得突破

发布时间：2020-06-05

近日.一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功.该设备采用特有的高均匀.高准直中紫外照明技术.结合光敏玻璃材料.实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工. ...<全部>

技术百科

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微流控芯片的发展及制造工艺介绍

发布时间：2020-06-03

微流控芯片的发展微全分析系统的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz与Widmer提出的.当时主要强调了分析系统的[微"与[全".及微管道网络的MEMS加工方法.而并未明确其外型特征.次年Manz等即在平板微芯片 ...<全部>

单片机程序设计

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什么是EUV?为何如此昂贵

发布时间：2020-06-02

为什么三星.台积电.英特尔.这三家直接竞争对手企业争相投资ASML?EUV堪称半导体设备发展以来最昂贵的设备.一台售价高达9,000 万欧元.中芯国际也向阿斯麦下单了一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机. ...<全部>

半导体生产

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光刻
EUV

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光刻技术的争夺愈演愈烈

发布时间：2020-05-29

近期.半导体界掀起了一阵小小的光刻潮.原因就是浸润式光刻技术的开创者林本坚博士获得了2018年未来科学大奖-数学与计算机科学奖.并于近日进行了多次主题演讲.使半导体光刻这项高端而又略显神秘的技术形象地展示 ...<全部>

半导体生产

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一颗引发行业变革的红外芯片

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