光刻-EDA365

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光刻技术概况

光刻技术是集成电路的关键技术之一在整个产品制造中是重要的经济影响因子.光刻成本占据了整个制造成本的35% 光刻也是决定了集成电路按照摩尔定律发展的一个重要原因.如果没有光刻技术的进步.集成电路就不可能...

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发布时间：2022-03-30

光刻领域的技术专家共聚一堂.公布最新研究成果

正如半导体国际杂志上所说的那样.在今年的SPIE Microlithography会议上.光刻领域的技术专家们共聚一堂并发表了他们的最新研究成果.毫无疑问本次会议将会产生更多的新闻和技术热点.而近来公布的一些关于前沿浸没...

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基板
光刻

发布时间：2022-03-28

半导体制造-光刻

(二)微影(Photo-Lithography)1.正负光阻微影光蚀刻术起源于照相制版的技术.自1970年起.才大量使用于半导体制程之图形转写复制.原理即利用对紫外线敏感之聚合物.或所谓光阻(photo-resist)之受曝照与否.来定...

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半导体
光刻

发布时间：2022-03-28

FSI 发布全新的用于无灰化.湿法光刻胶去除ViP工艺技术

该技术应用在ZETA® G3喷雾清洗平台上 (2006年3月20日)-- FSI国际有限公司(Nasdaq: FSII)面向全球发布全新的ViPR™技术.这项创新技术省去了绝大多数已注入光刻胶去除所需的灰化工艺步骤.包括1x1017 离子⁄厘米2 ...

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光刻
光刻胶

发布时间：2021-07-26

应用传统紫外光刻机进行紫外压印

1 引言自1995年纳米压印技术提出以来.人们希望通过该技术实现低成本.高分辨率.高效率.大面积的批量制备纳米结构.但是.传统的热压印技术需要加热.高压环节.从而造成压印环节复杂.难于控制.1999年.美国得...

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光刻机
光刻

发布时间：2021-06-25

助力高级光刻技术:存储和运输EUV掩模面临的挑战

引言随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限.极紫外 (EUV) 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中.对于 7 纳米及更小的高级节点.EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术.要在如此精细...

材料技术

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发布时间：2021-06-25

2012前内存芯片厂商重点不放产能拓展方面

据iSuppli公司分析.由于全球内存芯片厂商在2005-2007年间已经耗费了大量资本进行设备投资和产能扩展,因此现有的产能已经可以满足2012年的市场需求.这便意味着在未来两年之内全球内存芯片厂商的主要精力将不会放在...

存储技术

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发布时间：2021-06-08

赛斯纯气体公司宣布在中国引入对光刻设备检验的微污染物检验服务

赛斯纯气体有限公司作为一家气体净化技术设备的世界领导者和供应商日前在2009年国际半导体设备与材料展览会上, 正式宣布引入微污染物检验服务和CollectTorr取样系统, 用于对在中国的光刻和测量设备提供检验.本...

接口

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发布时间：2021-01-12

ASML一体化光刻解决方案延续摩尔定律

ASML集团公司(ASML Holding NV) 在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备.让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸.FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

IC设备国产化多点突破二手市场寻求整合

[工欲善其事.必先利其器."集成电路产业的发展离不开装备制造业的支撑.而装备业的发展水平也是衡量一个国家集成电路产业总体水平的重要标准.近年来.我国集成电路装备业取得了长足的进步.12英寸设备在多个工序实...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

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支持PCIe 6.0！国产时钟芯片的创新发展史

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分析：450mm晶圆、EUV光刻、TSV都将延迟