×
搜索
每日签到
|
APP下载
|
登录
首页
研发技术
技术分类
嵌入式
模拟电子
电磁兼容
单片机
电池
电源
RF射频
传感器
显示-光电
FPGA/DSP
接口总线驱动
全部
前沿技术
高通5G手机芯片性能测评
高频小信号谐振放大电路时域与频域对比分析
高薪IC设计工程师是如何炼成的?
龙芯发布四款芯片:加速产业布局 中国芯大有可为
为什么我们要用隔离式放大器
热门技术文章
液晶显示器控制设计_含源程序代码
飞思卡尔数字压力传感器实现硬盘驱动存储容量增加
骁龙710为全新层级的智能手机提供用户所需的的顶级特性
解读西部电子设计行业四大亮点
节点转换成本升级,摩尔定律将在2014年被打破?
适用于WLAN IEEE80211a标准的双模前置分频器设计
行业应用
行业应用
医疗电子
物联网
智能电网
汽车电子
工业控制
AI
家电数码
热门应用
物联网网关是智能家居发展的重要支撑
齐聚澳门 ViewSonic优派助阵MDL Macau Dota 2 国际精英邀请赛
龙芯、飞腾、申威进入国企采购目录 但不应过度解读
绝缘电阻极化指数测量方法
阿特斯阳光电力加入 Intertek ‘卫星计划’
最新应用文章
区块链本体跨链技术设计方案解析
机器人技术电路设计图集锦
智能手环怎么用_智能手环使用教程
以IoT联接智能家居和楼宇
工业机器人控制系统由什么组成
绝缘电阻测试仪及兆欧表的组成和选用标准
电子论坛
社区导航
更多>
硬件设计讨论
电磁兼容&安规论坛
射频RF|微波技术
电源技术论坛
信号完整性SI/PI仿真
芯片SIP|封装设计
单片机|MCU论坛
ARM|DSP嵌入式论坛
物联网技术
FPGA|CPLD论坛
MATLAB论坛
器件选型&认证
Cadence Allegro论坛
Allegro Skill开发
Orcad|Concept论坛
Mentor Xpedition论坛
PADS PCB论坛
Altium Protel论坛
PCB封装库论坛
EDA365作品展
PCB生产工艺论坛
电子装联PCBA工艺&设备论坛
IPD流程管理
失效分析&可靠性
元器件国产化论坛
EDA365线下活动区
职业生涯
EDA365原创吧
巢粉引擎
电巢直播
研发资源
电子百科
器件手册
设计外包
EDA365 Skill
EDA365 Tools
Xilinx开发者社区
电巢
研发资源
>
标签
>
光刻胶
光刻胶
...
|
相关技术
FSI 发布全新的用于无灰化.湿法光刻胶去除ViP工艺技术
发布时间:2021-07-26
该技术应用在ZETA® G3喷雾清洗平台上 (2006年3月20日)-- FSI国际有限公司(Nasdaq: FSII)面向全球发布全新的ViPR™技术.这项创新技术省去了绝大多数已注入光刻胶去除所需的灰化工艺步骤.包括1x1017 离子⁄厘米2 ...
<全部>
技术百科
|
光刻
光刻胶
16
魏少军:中国芯[卡脖子"的地方是材料
发布时间:2021-04-27
近日.在中国互联网络信息中心(CNNIC)举办的第二届中国互联网基础资源大会上.清华大学教授.中国半导体行业协会副理事长魏少军发表演讲并表示.我国芯片设计不受国外制约.主要卡在制造环节.而芯片制造主要卡在材料环节.其中的光刻胶原料还需要大量的研究. ...
<全部>
技术百科
|
芯片
光刻胶
126
上兵伐谋:日本的半导体技术让世界害怕
发布时间:2020-07-10
7月4日起.日本公司生产的氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide).半导体制造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching Gas)三种材料出口到韩国时将不再享受优惠待遇.而且每次出货时出口商都必须获得许可.拿到许可大约 ...
<全部>
其他资讯
|
氟聚酰亚胺
光刻胶
160
光刻胶材料的重大突破 极紫外光刻迈向实用
发布时间:2020-07-06
新式半导体光刻技术中.极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一.不过其实现难度也相当高.从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年. 仍然未能投入实用.极紫外光刻面临的关键挑战之一就是寻找合适的光刻胶 ...
<全部>
模拟电路设计
|
光刻胶
极紫外光刻
97
预计193nm光刻胶市场将迅猛增长
发布时间:2020-07-01
根据咨询公司Linx Consulting的报告.193nm光刻胶市场预计将在未来五年内获得27%的符合年均增长率.到2013年将达近12亿美元. 193nm光刻胶市场.包括干法和沉浸式.是先进光刻及制版市场上最具成长潜力的市场. ...
<全部>
工艺设备
|
市场
光刻胶
193nm
195
光刻胶材料的重大突破 极紫外光刻迈向实用
发布时间:2020-06-16
新式半导体光刻技术中.极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一.不过其实现难度也相当高.从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年. 仍然未能投入实用.极紫外光刻面临的关键挑战之一就是寻找合适的光刻胶 ...
<全部>
技术百科
|
光刻胶
极紫外光刻
97
中国半导体产业因光刻胶失色
发布时间:2020-06-12
[假如我们把光刻机比作一把菜刀.那么光刻胶就好比是要切割的菜.没有高质量的菜.即使有了锋利的菜刀.也无法做出一道佳肴."日前.江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说.下面就随嵌入 ...
<全部>
技术百科
|
半导体
光刻胶
86
中国光刻胶产业喜忧参半.集中力量发展一条ArF产线足矣
发布时间:2020-05-28
在进入21世纪后中国的光刻胶在其原来落后的基础上开始走入一个增长期.特别是2012年以后这个增长速度在加快.2012年时中国做光刻胶的只有五家:苏州瑞红.潍坊星泰克.中科院化学所.北师大与北京科华;而到了2017年 ...
<全部>
半导体生产
|
光刻胶
ArF产线
66
上海新阳成立控股子公司研发193nm高端光刻胶
发布时间:2020-05-28
3月14日.上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告.拟与合作方共同投资设立子公司[上海新纳微电子材料有限公司"(最终名称以实际工商登记为准.以下简称[目标公司"或[控股子公司")开展 193nm(ArF)干法光刻胶研发及产 ...
<全部>
半导体生产
|
光刻胶
193nm
17
中国半导体产业之[痛":光刻胶始终受制于人
发布时间:2020-05-16
[假如我们把光刻机比作一把菜刀.那么光刻胶就好比是要切割的菜.没有高质量的菜.即使有了锋利的菜刀.也无法做出一道佳肴."日前.江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说.在北京化工大 ...
<全部>
材料技术
|
光刻胶
108
上一个
下一个
|
最新活动
国产PCIe Retimer芯片!破解高速传输信号完整性难题
|
相关标签
半导体
晶圆
极紫外光刻
193nm
PCB
江化微
晶瑞股份
日本
|
热门文章
预计193nm光刻胶市场将迅猛增长
光刻胶材料的重大突破 极紫外光刻迈向实用
魏少军:中国芯[卡脖子"的地方是材料
日本已恢复向韩国出口?EUV光刻胶的材料已获批
日韩拉锯战又一次升级.光刻胶版块闻风上涨