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刻蚀
刻蚀
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石英MEMS传感器敏感芯片的各种工艺介绍
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MEMS即微机电系统.是指采用微机电加工技术按照功能要求在微米量级的芯片上集成机械零件.电子组件和传感器执行组件等而形成的一个独立智能系统. ...
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氟橡胶密封的刻蚀机理和使用特性
发布时间:2021-07-29
半导体工业中的等离子加工对于氟橡胶真空密封是一个富有挑战性的环境.在高温和等离子条件下实现的密封能力对于使设备的运行时间和制造良率最大化是至关重要的.密封和各种等离子间的物理和/或化学相互作用.可能产 ...
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IC设备国产化多点突破二手市场寻求整合
发布时间:2020-07-01
[工欲善其事.必先利其器."集成电路产业的发展离不开装备制造业的支撑.而装备业的发展水平也是衡量一个国家集成电路产业总体水平的重要标准.近年来.我国集成电路装备业取得了长足的进步.12英寸设备在多个工序实 ...
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中微半导体设备有限公司加速亚洲市场布局
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刻蚀
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中微推出用于3D芯片及封装的硅通孔刻蚀设备Primo TSV200E
发布时间:2020-07-01
具备超高产能.单位投资产出率高出同类产品30%.已进入中国昆山西钛和江阴长电上海和旧金山2012年3月15日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司(以下简称[中微")推出了8英寸硅通孔(TSV)刻蚀设备Primo TSV20 ...
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刻蚀
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关注成长中的新技术:MEMS(微电子机械系统)
发布时间:2020-06-05
MEMS技术的发展是利用微细加工和半导体制造工艺.从制造传感器(敏感元件)开始.一步步走向集成模块与子系统.MEMS制造商也采取了类似的产业化战略:用传感器(敏感元件)作为起点.打开市场.取代现有产品,进而以 ...
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技术百科
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器件
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MEMS技术
刻蚀
传声器
惯性测量
半导
微电子机械系统
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微流控芯片的发展及制造工艺介绍
发布时间:2020-06-03
微流控芯片的发展微全分析系统的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz与Widmer提出的.当时主要强调了分析系统的[微"与[全".及微管道网络的MEMS加工方法.而并未明确其外型特征.次年Manz等即在平板微芯片 ...
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单片机程序设计
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MEMS
光刻
微流控芯片
刻蚀
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5纳米刻蚀设备.国产半导体设备厂商有了话语权
发布时间:2024-11-02
半导体产品的生产和制造涉及多种高端精密技术.堪称工业制造皇冠上的明珠.尤其是其中的光刻机.是生产大规模集成电路的核心设备.目前核心技术仍然把持在国外仅有的几家大公司手中.可喜的是.国内半导体设备厂商正 ...
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半导体生产
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刻蚀
5nm
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芯片的雕刻刀!揭秘走在国产替代前列的刻蚀设备
发布时间:2024-11-02
光刻机.刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的三大核心设备.如果把芯片比作一幅平面雕刻作品.那么光刻机是打草稿的画笔.刻蚀机是雕刻刀.沉积的薄膜则是构成作品的材料.光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸 ...
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PCB设计
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芯片
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国产PCIe Retimer芯片!破解高速传输信号完整性难题
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