×
研发资源 > 标签 > 双面光刻
|相关应用领域

制作压力传感器中用到的简易双面光刻对准技术

 发布时间：2020-05-27
在压力传感器的微细加工技术中要求在样品背面的掩膜上光刻出压力腔窗口的图形而且与正面图形严格对准.待别是在设计时必须将力敏电阻安排在膜内,有时离开膜边的距离仅为30P".正反图形错开时.力敏电阻条对压力灵敏 ...<全部>
  • 181
上一个 下一个
|最新活动
Ecosmos携手第二十六届高交会，开启元宇宙展会新纪元

Ecosmos携手第二十六届高交会，开启元宇宙展会新纪元
|相关标签
|热门文章
制作压力传感器中用到的简易双面光刻对准技术

技术

硬件开发 EMC IC封装设计 射频RF 单片机IMCU 信号完整性 FPGA 电源 PCB设计 物联网 PCB工艺 PCBA

阅读

电子汇 最新资讯 EDA365原创吧

资源

公开课 研讨会 在线计算器

互动

论坛 外包
电巢APP下载电巢APP下载
关于我们 ｜ 手机版 ｜ EDA365电子论坛网 (粤ICP备18020198号)
GMT, 2020-03-13 09:00 , Processed in 0.109375 second(s), 13 queries , Gzip On.