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XRD对ZnO 薄膜生长条件和退火工艺的优化(MOCVD)

 发布时间：2022-03-28
王金忠1.闫玮1.王新强1.殷景志1.姜秀英1. 杨树人1.杜国同1.高鼎三1.Xiang Liu2.Hui Cao2, Junying Xu2, R.P.H.Chang2(1.吉林大学 电子工程系 集成光电子学国家联合重点实验室.吉林 长春 130023,2.美国西 ...<全部>
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