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虽然摩尔定律(Moore’s Law)即将失效的说法，基本上已经成为半导体产业的共识，但全球主要晶圆制造/代工厂对于先进制程的发展投入，仍不遗余力。 包含台积电、三星电子(Samsung)、格罗方德(GlobalFoundries)、英特尔(Intel)等重量级晶圆制造/代工厂，均已将10奈米以下制程节点列入其技术发展路线图。
其中，台积电将在2018年正式进入7奈米世代，并于2020年率先进入5奈米制程；三星与英特尔目前则将重心放在10奈米制程上，并预计在2019年下半到2020年间先后进入7奈米制程。
与IBM渊源深厚的格罗方德，其技术发展路线则颇有另辟蹊径的意味。 该公司除了将继续推进标准CMOS的制程技术外，还将全空乏(Fully Depleted, FD)技术列为发展重点。 与标准CMOS制程相比，FD制程最大的优势在于闸极漏电流更低，因此组件的静态功耗可以进一步下降。
不过，FD技术发展上最大的瓶颈在于需要极为庞大的投资，以便将该制程推向量产。 另一方面，由于主要晶圆制造业者都采用CMOS制程，因此FD技术的产能规模恐怕难以跟标准CMOS制程相提并论，这会是FD技术要在市场上与CMOS技术竞争最大的挑战所在。
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