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美国加州圣荷塞, 2009年2月27, 芯片设计解决方案供应商微捷码设计自动化有限公司日前宣布，该公司面向先进集成电路的物理设计环境Talus® Vortex的最新版本正式面市。这款2009年1月版产品包括了最前沿设计所需的各种先进功能，如：全流程多模/多角优化和低功耗时钟树综合。
Talus Vortex采用了可在多CPU机器上有效运行的增强型算法，最适用于最具挑战性设计，特别是从130至32纳米（nm）技术节点、具有数千万门级电路的无线、图形、网络和多媒体芯片设计。Talus Vortex已在超过100项设计上进行了生产验证，其中包括了数十项的45纳米及45纳米以下设计。
“对于我们客户感到最棘手的设计，Talus Vortex会不断设置最佳结果质量（QoR）标准，提供无 与伦比的生产率，”微捷码设计实施业务部总经理Kevin Moynihan表示，“这款2009年1月版本产品提高了Talus Vortex的效率，相较2008年版产品提供了显著的性能改善。”
Talus Vortex的多模多角分析功能已得到进一步增强，可实现更好的存储器和运行时间效率，且可在流程更早期执行。该版本提供了较2008年版产品最多可更好20%的时序、功耗和面积结果，设计周期也缩短了将近一半。Talus Vortex拥有增强的自动化功能，可实现更好可用性，同时还提供业界最佳的全流程多线程加速。
Talus Vortex：面向先进芯片的最佳设计流程
Talus Vortex通过提供完整的设计收敛，可显著改善物理设计师的生产率。相比常规的单点工具流程，这款集成化实现和签核系统提供了更高的时序和信号完整性、更小的面积、更好的可制造性、更短的设计周期和更高的容量。这些功能再结合可选的跨多计算机自动分布式处理功能，使得Talus Vortex能以可预测方式实现任意尺寸的从RTL到GDSII的设计。
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