此外，韩媒还提到了韩国 EUV 专利数量，据韩国知识产权局(KIPO)发布的《近 10 年(2011-2020 年)专利申请报告》显示，2019 年，韩国提交的专利申请数量为 40 件，超过了国外企业的 10 件。这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。到 2020 年，韩国提交的专利申请也将是国外企业申请的两倍以上。

 

专利申请将很快成为计划在将来进一步开发 EUV 技术和产品的韩国公司的强大工具。报告还显示，只有六家主要公司占专利申请总量的 59％以上。其中包括卡尔·蔡司（18％），三星电子（15％），ASML（11％），S＆S Tech（8％），TSMC（6％）和 SK Hynix（1％）。

 

如果按照详细的技术项目来划分，处理技术（process technology）的专利申请量占 32％；曝光设备技术（exposure device technology）的专利申请量占 31％；膜技术（mask technology）占比为 28%，其他为 9%。

 

在工艺技术领域，三星电子占 39％，台积电占 15％，这意味着两家公司占 54％。在膜领域，S＆S Tech 占 28％，Hoya（日本）占 15％，Hanyang University（韩国）占 10％，Asahi Glass（日本）占 10％，三星电子占 9％。

 

了解到，EUV 光刻技术是多种先进技术的总称，具体包括多层反射镜，多层掩模，防护膜，光源等。作为高端芯片生产流程的重要技术组成，EUV 光刻技术的研发是一块十分“难啃的骨头”，其具体的技术高度和复杂程度，在业内甚至有超过研发“原子弹”的说法。

 

在过去十年里，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术领先。最近，代工公司开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器（AP）。