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光刻技术
光刻技术
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相关技术
芯片升级全靠它--光刻技术概述
发布时间:2022-09-13
光刻技术与我们的生活息息相关.我们用的手机.电脑等各种各样的电子产品.里面的芯片制作离不开光科技束.如今的世界是一个信息社会.各种各样的信息流在世界流动.而光刻技术是保证制造承载信息的载体.在社会上拥有不可替代的作用. ...
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技术百科
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芯片
光刻技术
EUV技术
117
光刻机为什么这么难造.不同光刻技术之间有哪些区别
发布时间:2021-07-23
光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠.它也是半导体制造中最复杂.最关键的工艺步骤.其主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上.光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平.根据暴光方法的不同.光刻可以划分为接触式光刻.接近式光刻和投影式光刻三种光刻技术 ...
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半导体设计
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芯片
半导体
光刻机
光刻技术
86
韩媒:韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得重大进展
发布时间:2021-04-27
据韩国媒体BusinessKorea报道.韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了极大进展.但并没有提到是哪一家企业.合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业. ...
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技术百科
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半导体
EUV
光刻技术
25
什么是光刻技术?EUV光刻技术目前主要面临哪三大挑战
发布时间:2021-03-16
近年来.在半导体行业.极紫外光刻(Extreme Ultra-Violet.以下简称EUV光刻)成为备受众多企业关注的光刻技术之一.前段时间.台湾积体电路制造股份有限公司宣布.已采用7纳米EUV工艺.今年.三星公司正式发布了7纳 ...
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技术百科
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EUV
光刻技术
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英特尔:全球制程工艺创新者和引领者
发布时间:2020-05-29
智能互联时代.数据洪流汹涌而生.对计算力的需求前所未有.英特尔始终以领先的制程工艺提供不断跃升的计算力.并将晶体管密度作为引领制程工艺发展的首要准则.英特尔以突破性技术和持续创新不断打破摩尔定律失效[ ...
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半导体生产
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半导体
光刻技术
81
芯片制造三巨头 光刻技术战略对比分析
发布时间:2020-05-28
台积电与Globalfoundries是一对芯片代工行业的死对头.不过他们对付彼此的战略手段则各有不同.举例而言.在提供的产品方 面.Globalfoundries在28nm制程仅提供HKMG工艺的代工服务(至少从对外公布的路线图上看是这 ...
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半导体生产
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Intel
台积电
芯片制造
GLOBALFOUNDRIES
光刻技术
12
先进的光刻技术不止有光刻机就这么简单
发布时间:2024-12-23
近两年来.芯片制造成为了半导体行业发展的焦点.芯片制造离不开光刻机.而光刻技术则是光刻机发展的重要推动力.在过去数十载的发展中.光刻技术也衍生了多个分支.除了光刻机外.还包括光源.光学元件.光刻胶等材 ...
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PCB设计
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光刻技术
173
美要在国际空间站进行光刻实验?新EUV涂层捕获太阳EUV辐射
发布时间:2024-12-23
国太空计划创造了历史.SpaceX DM-2 龙飞船(Crew Dragon)上的 NASA 宇航员罗伯特·本肯(Robert Behnken)和格拉斯·赫利(Douglas Hurley)抵达国际空间站(ISS).这是商业航天器首次将宇航员运送到国际空间站.xa ...
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技术百科
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EUV
光刻技术
Astrileux
30
详细解读芯片如何[坐拥"百亿个晶体管
发布时间:2024-12-23
如今的 7nm EUV 芯片.晶体管多大 100 亿个.它们是怎么样安上去的呢.晶体管并非是安装上去的.芯片制造其实分为沙子 - 晶圆.晶圆 - 芯片这样的过程.而在芯片制造之前.IC 涉及要负责设计好芯片.然后交给晶圆代 ...
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电源硬件技术
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晶体管
集成电路
eda
光刻技术
刻蚀工艺
48
深度:光刻技术的历史与现状
发布时间:2024-12-23
集成电路产业是现代信息社会的基石.集成电路的发明使电子产品成本大幅度降低,尺寸奇迹般减小.以计算机为例.1946年诞生的世界第一台数字计算机重30吨,占地约140平方米.而集成电路将晶体管.电阻.电容等电子元件连接在小块的硅片上,可使计算机体积更小,功耗更低,速度更快. ...
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技术百科
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集成电路
光刻技术
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一颗引发行业变革的红外芯片
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