EUV光刻-EDA365

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清华团队报告了一种新型粒子加速器光源[稳态微聚束"研究.有望破解自研光刻机核心难题

发布时间：2022-08-11

日前.清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心(HZB)以及德国联邦物理技术研究院(PTB)的合作团队在自然(Nature)上发表了题为[稳态微聚束原理的实验演示"的研究论文. ...<全部>

技术百科

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光学光刻和EUV光刻中的掩膜与晶圆形貌效应

发布时间：2020-07-02

半导体制造中微型化的进展使得光刻掩膜和晶圆上的几何图形不断增加.准确模拟这些图形产生的衍射要求运用精确的电磁场(EMF)模拟方法.这些方法是在给定的几何形状.材料参数和入射场(照明)条件下.用合适的数值方法 ...<全部>

模拟电路设计

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光学光刻和EUV光刻中的掩膜与晶圆形貌效应

发布时间：2020-06-23

半导体制造中微型化的进展使得光刻掩膜和晶圆上的几何图形不断增加.准确模拟这些图形产生的衍射要求运用精确的电磁场(EMF)模拟方法.这些方法是在给定的几何形状.材料参数和入射场(照明)条件下.用合适的数值方法 ...<全部>

集成电路

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存储芯片行业何时会用上EUV工艺?

发布时间：2020-06-22

今年台积电.三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺.第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺.二代7nm才会上EUV光刻工艺.预计明年量产.那么存储芯片行业何时会用上EUV工艺?在美光看来.EUV光刻工艺并不是DR ...<全部>

技术百科

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DRAM
EUV光刻

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芯片代工巨头[哭"诉:EUV光刻.你这么皮.这样真的好的吗?

发布时间：2020-06-15

经历了又是一年的[沉淀".华为海思麒麟980芯片终于有了最新消息.据多家科技媒体最新报道.华为计划将在今年第二季度推出其第二款搭载升级版本NPU的人工智能芯片.并且采用台积电最新量产的7nm制程工艺.总体看来不 ...<全部>

技术百科

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200

闪存光刻新思路

发布时间：2024-11-22

用于图案化构成这些存储器的 20 nm 半节距线的光刻技术是另一个机会.可以查看行业中当前已知的光刻方法的基本方面和局限性. ...<全部>

嵌入式开发

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