工艺-EDA365

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基于CMOS工艺的新型集成运算放大器设计

集成电路.即integrated circuit.这是一种微型电子器件或部件.按功能可划分为数字和模拟两大类.而模拟集成电路一般用于模拟信号的产生和处理.有很多种种类.比如集成运算放大器.集成锁相环.集成功率放大器.集...

模拟电路设计

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发布时间：2020-07-01

台积电:28nm制程节点将转向Gate-last工艺

去年夏季.一直走Gate-first工艺路线的台积电公司忽然作了一个惊人的决定:他们将在其28nm HKMG栅极结构制程技术中采用Gate-last工艺.不过据台积电负责技术研发的高级副总裁蒋尚义表示.台积电此番作出这种决定...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

台积电取得ASML EUV微影设备以研发新工艺

TSMC与荷兰艾司摩尔(ASML)公司近日共同宣布.TSMC将取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet.EUV)微影设备.是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一. 这项设备将安装于TSMC的超...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

存储器中采用铜工艺对于设备市场的影响

按Information Network总裁Robert Casterllano的说法.2009年存储器芯片向铜互连工艺过渡开始热了起来.由此虽然2009年整个半导体设备市场下降超过40%以上. 而与铜互连直接相关连的设备仅下降8.7%. 在2006未M...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

美大学用纳米管喷墨印刷工艺简化晶体管制造

目前有不少研究机构都投注了大量资源.来改善对纳米管(nanotubes)进行分类的方法.如此就能为印刷电子工艺生产出导电.半导电或是绝缘的墨水材料,有了这些墨水.晶体管或是其他电路组件.就能够轻易地用喷墨打印机...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

得可携手OK国际举办2011先进工艺及应用技术研讨会

(中国上海.2011年7月12日) 得可(DEK)作为全球领先的电子材料高精度批量印刷设备供应商.携手OK国际于今日在成都共同举办先进工艺及应用技术研讨.会议吸引了众多业内知名企业的积极参与.并纷纷对两家业内领先公...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

ARM:最快明年底发布20纳米工艺芯片

ARM处理器部门主管西蒙·赛加斯(Simon Segars)周一在Computex大展上表示.采用20纳米工艺生产的ARM芯片最快将于明年底发布.赛加斯说:[整个行业都推进下一代技术.只要在经济和技术上可行.便会立刻推出."赛加斯说...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

[联合创新"模式助力中国集成电路工艺创新与演进

在中国全面实现工业化的今天.几乎所有人都将目光集中在飞机发动机.集成电路.生物工程等重点行业.这其中.集成电路行业发展尤为引人注目.工信部在解读中国制造2025时称.[集成电路是工业的`粮食`.其技术水...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

基于0．5μm CMOS工艺的一款新型BiCMOS集成运算放

摘要:为了提高运算放大器的驱动能力.依据现有CMOS集成电路生产线.介绍一款新型BiCMOS集成运算放大电路设计.探讨BiCMOS工艺的特点.在S-Edit中进行[BiCMOS运放设计"电路设计.并对其电路各个器件参数进行调整.包...

模拟电路设计

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发布时间：2020-07-01

CEVA推出CEVA-TeakLite-III DSP架构

较之于面向新兴消费和无线应用广受欢迎的CEVA-TeakLite内核.CEVA-TeakLite-III的功能更多.而性能更提升一倍以上专业向无线.消费者和多媒体应用提供创新的知识产权 (IP) 平台解决方案和数字信号处理器 (DSP) ...

DSP系统

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发布时间：2020-07-01

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第26届高交会元宇宙完美收官，数字化参会体验引爆全场

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