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电子网消息，据浙江在线报道，近日，国家02科技重大专项之一“28nm节点浸没式光刻机产品研发”的核心部件“光刻机浸液系统”项目签约入驻杭州青山湖科技城。
目前，该项目已拥有60余项发明专利，团队现有研发人员100余人。同时，该项目总投资5亿元，拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩。
“28nm节点浸没式光刻机产品研发”针对的是高端光刻机。这是集成电路装备中技术难度最高的关键设备，目前，全世界只有少数几家公司能够制造。相关负责人介绍，该项目有望打破国外垄断，打造拥有自主知识产权的高端光刻机设备，对于我国芯片产业发展具有重大意义。
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