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光刻设备
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日本半导体技术略有下降.但EUV实力不容小觑
发布时间:2022-09-14
近期三星为争抢EUV设备.高层频频传出密访ASML.EUV的重要性早已不言而喻.提到EUV.大家首先想到的就是ASML.ASML并不是一个家喻户晓的名字.但他却是现代技术的关键.因为它提供了制造半导体必不可少的[光刻"机器 ...
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光刻设备交货延期推迟DRAM 40纳米战局
发布时间:2020-07-01
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40nm
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下了血本.为抢苹果A13订单.三星曾几乎买断ASML一年的EUV设备产能!
发布时间:2020-06-18
据台湾媒体报道.为了防止三星抢夺苹果A13处理器订单.台积电计划年底前进行7nm改进版产线试产.相较早先计划提前约1个季度.之前曾有消息报道.苹果要求台积电在2019年使用EUV极紫外光刻.不过台积电联席CEO刘德音 ...
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先进封装和3D-IC促进EVG300毫米聚合体自动晶圆键合系统销量
发布时间:2020-05-27
过去的12个月.CMOS图像传感器和3D-ICs生产的大幅推动.致使EVG集团该系统的订单量翻一番 2015年8月31日.奥地利的圣弗洛里安--作为MEMS.纳米技术和半导体市场中主要晶圆键合和光刻设备供应商的EVG集团.今日称其30 ...
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