光刻设备-EDA365

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|相关技术

日本半导体技术略有下降.但EUV实力不容小觑

发布时间：2022-09-14

近期三星为争抢EUV设备.高层频频传出密访ASML.EUV的重要性早已不言而喻.提到EUV.大家首先想到的就是ASML.ASML并不是一个家喻户晓的名字.但他却是现代技术的关键.因为它提供了制造半导体必不可少的[光刻"机器 ...<全部>

PCB设计

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EUV
光刻设备

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光刻设备交货延期推迟DRAM 40纳米战局

发布时间：2020-07-01

全球DRAM产业40纳米大战出现变量.由于浸润式机台(Immersion Scanner)递延交货之故.瑞晶已松口表示.原本计划年底前旗下8万片12寸晶圆产能要全转进45纳米制程的目标.将正式递延至2011年第1季.其第1台浸润式机台本 ...<全部>

工艺设备

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下了血本.为抢苹果A13订单.三星曾几乎买断ASML一年的EUV设备产能!

发布时间：2020-06-18

据台湾媒体报道.为了防止三星抢夺苹果A13处理器订单.台积电计划年底前进行7nm改进版产线试产.相较早先计划提前约1个季度.之前曾有消息报道.苹果要求台积电在2019年使用EUV极紫外光刻.不过台积电联席CEO刘德音 ...<全部>

技术百科

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先进封装和3D-IC促进EVG300毫米聚合体自动晶圆键合系统销量

发布时间：2020-05-27

过去的12个月.CMOS图像传感器和3D-ICs生产的大幅推动.致使EVG集团该系统的订单量翻一番 2015年8月31日.奥地利的圣弗洛里安--作为MEMS.纳米技术和半导体市场中主要晶圆键合和光刻设备供应商的EVG集团.今日称其30 ...<全部>

半导体生产

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上一个下一个

一颗引发行业变革的红外芯片

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全球首台大型紫外3D直写光刻设备.已在苏大维格下线并投入运行