光刻机-EDA365

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EUV光刻机为何很耗电

EUV(极紫外光)光刻机.是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型.近来.有不少消息都指出.EUV光刻机耗电量非常大.甚至它还成为困扰台积电的一大难题....

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发布时间：2021-08-31

中芯国际回应设备商产品获美许可

与非网3月3日讯中芯国际的成熟工艺已获得部分美国设备厂商的供应许可.中芯国际在上证e互动上回复称.公司会尽最大努力.持续携手全球产业链伙伴.保证公司生产连续性及扩产规划不受影响....

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发布时间：2021-08-12

光刻机为什么这么难造.不同光刻技术之间有哪些区别

光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠.它也是半导体制造中最复杂.最关键的工艺步骤.其主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上.光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平.根据暴光方法的不同.光刻可以划分为接触式光刻.接近式光刻和投影式光刻三种光刻技术...

半导体设计

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发布时间：2021-07-23

中芯国际与阿斯麦签订12亿美元大单

与非网3月5日讯公告显示.中芯国际于 2021 年 2 月 1 日与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议.据此.阿斯麦批量采购协议的期限从原来的 2018 年 1 月 1 日至 2020 年 12 月 31 日延长至从2018 年 1 月 1 日至 2021 年 12 月 31 日....

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发布时间：2021-07-20

大族激光3-5μm光刻机已接订单.国产半导体正艰难翻身

大族激光在互动平台上表示.公司在研光刻机项目分辨率 3-5μm.主要聚焦在分立器件.LED 等方面的应用.目前已接到少量订单.此前.大族激光也在互动平台表示.公司在研光刻机项目主要聚焦在分立器件.LED 等领...

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发布时间：2021-06-29

应用传统紫外光刻机进行紫外压印

1 引言自1995年纳米压印技术提出以来.人们希望通过该技术实现低成本.高分辨率.高效率.大面积的批量制备纳米结构.但是.传统的热压印技术需要加热.高压环节.从而造成压印环节复杂.难于控制.1999年.美国得...

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光刻机
光刻

发布时间：2021-06-25

90%零件需全球采购?!制造一台光刻机究竟有多困难?

一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持?制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中?看看制造一台光刻机究竟有多困难....

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发布时间：2021-05-13

半导体设备行业蒙上一层阴影.国产光刻机渡劫难

最近美国的禁令让中国整个半导体行业都蒙上了一层阴影.而最为要紧的是光刻机的国产化进程.芯片制造设备比重突出据 Semi 统计.2019 年全球半导体设备市场达 597.4 亿美元.设备投资占晶圆厂整体资本支出的 70%-...

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发布时间：2021-05-13

消息称武汉弘芯通知遣散所有员工.再无复工复产计划

与非网3月1日讯媒体援引知情人士消息.武汉弘芯半导体现已开始遣散全体员工.遗留的千亿半导体项目走向再无法猜测....

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发布时间：2021-04-23

英唐智控即将收购先锋微技术.包含其日本产光刻机设备

英唐智控在互动平台表示.先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备.其收购事项已经获得日本政府批准.先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造.在满足其自身生产研发需要的前提下.不排除向具备条件的...

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发布时间：2021-04-22

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