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EUV单次曝光能力提升至24nm节距

本周在SPIE高级光刻会议上,世界领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心IEMC与世界领先的半导体光刻设备制造商ASML宣布了一项合作成果.在印刷24nm节距线方面取得突破,该节距对应于3nm节点中关键后段金属层节距...

集成电路设计

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发布时间：2021-07-27

ASML除了光刻机还有什么秘密武器

ASML ( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半导体光刻系统的主要供应商.也是EUV系统的唯一供应商.根据Network题为[Sub 100nm光刻:市场分析与战略问题"的报道.ASML当前取得的成绩可以汇总为以下几点:...

工艺设备

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半导体
ASML

发布时间：2021-07-22

中芯国际与ASML修订批量采购协议总价12亿美元

3月3日.中芯国际发布公告称.2021年2月1日.公司与阿斯麦(ASML)上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议.据此.阿斯麦批量采购协议的期限从原来的2018年1月1日至2020年12月31日延长至从2018年1月1日至2021年...

PCB设计

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中芯国际
ASML

发布时间：2021-07-19

大族激光3-5μm光刻机已接订单.国产半导体正艰难翻身

大族激光在互动平台上表示.公司在研光刻机项目分辨率 3-5μm.主要聚焦在分立器件.LED 等方面的应用.目前已接到少量订单.此前.大族激光也在互动平台表示.公司在研光刻机项目主要聚焦在分立器件.LED 等领...

技术百科

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发布时间：2021-06-29

台积电现已采购35台EUV设备.占ASML过半产量

台积电目前已采购 35 台EUV设备.占ASML过半产量.2021 年底采购总量将超过 50 台.相较之下.三星EUV设备采购量目前不到 20 台.此前.EUV光刻机制造商ASML首席执行官 Peter Wennink...

技术百科

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发布时间：2021-04-06

上亿美元的光刻机牛在哪儿?来看看就知道了

中学课本上有一篇文章叫核舟记.讲述了古人在核桃上刻出苏轼泛舟赤壁图的奇巧技艺. 几百年后.半导体产业已经将这种细微处创造天地的技艺发展到超乎想象的境地. 本文要说的.就是让半导体真正能够妙至颠毫的...

工艺设备

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发布时间：2020-12-24

ASML一体化光刻解决方案延续摩尔定律

ASML集团公司(ASML Holding NV) 在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备.让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸.FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

2010决胜年 ASML 主攻38纳米.EUV设备

全球最大半导体微显影设备业者ASML表示.目前客户订单增加相当多.但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求.半导体业者仍持续微缩半导体制程.摩尔定律预料将持续延续.以目前ASML最先进的浸润式微显影机种...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

半导体设备行业:全面走出阴影

10月是收获的季节.对全球半导体设备行业来说.这句话同样适用.经历了全球经济危机后.各大设备公司10-11月公布的季度报表开始全面飘红. Applied Materials 11月11日公布的09年第4季财报显示公司已扭亏为盈....

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

台积电取得ASML EUV微影设备以研发新工艺

TSMC与荷兰艾司摩尔(ASML)公司近日共同宣布.TSMC将取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet.EUV)微影设备.是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一. 这项设备将安装于TSMC的超...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

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