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EUV
EUV极紫外真难!台积电首次揭秘5nm:频率仅提升15%
Intel 10nm工艺还在苦苦挣扎.台积电和三星已经开始量产7nm.下一步自然就是5nm.台积电近日也首次公开了5nm的部分关键指标.看起来不是很乐观.明年.台积电的第二代7nm工艺会在部分非关键层面上首次尝试使用EVU极...
半导体生产
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EUV
5nm
发布时间:2020-05-26
EUV被视为晶圆制造救世主 然技术瓶颈仍难克服
根据Semiconductor Engineering报导.EUV微影技术被视为晶圆制造产业的[救世主".多家业者均希望靠该技术有效突破线宽瓶颈.不过专家表示.EUV技术发展进度不一.且目前仍有无法克服的限制.包括镜片的可替换性.以...
半导体生产
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晶圆
EUV
发布时间:2020-05-26
EUV量产带动接单畅旺 ASML销售创记录
微影系统供应商ASML发布第四季业绩成长强劲.其销售额在本季创造了新纪录.还接了10台新一代极紫外光(EUV)微影设备的订单.姗姗来迟的EUV终于进入量产阶段.一些尖端芯片制造商计划在今年晚些时候或最迟明年初采用....
半导体生产
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EUV
ASML
发布时间:2020-05-26
EUV面临的问题和权衡
新的光刻工具将在5nm需要.但薄膜.阻抗和正常运行时间仍然存在问题.Momentum正在应用于极紫外(EUV)光刻技术.但这个谈及很久的技术可以用于批量生产之前.仍然有一些主要的挑战要解决.EUV光刻技术 - 即将在芯片...
半导体生产
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EUV
薄膜
发布时间:2020-05-26
EUV 设备供不应求.使得 ASML 股价一年内大涨 30%
受惠于各家晶圆代工厂.包括台积电.三星.格罗方德等企业纷纷宣布将在 2018 年导入 7 奈米先进制程的情况下.EUV 极紫外线光刻机在其中所扮演的关键角色就越来越重要. 而目前做为光刻机的龙头老大荷兰艾斯摩尔 (A...
半导体生产
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EUV
ASML
发布时间:2020-05-26
EUV将成主流.哪些公司将受伤?
编者注:本文作者华盛证券九叔.主要为您介绍了ASML的极紫外光刻机推进对整个半导体设备行业的影响.据相关机构统计.整个2016年.ASML销售了139台光刻机.在半导体设备行业的市场份额在58%左右.其他的对手包括尼康...
半导体生产
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EUV
ASML
发布时间:2020-05-26
4纳米大战.三星抢先用EUV.拥抱GAAFET
晶圆代工之战.7 纳米制程预料由台积电胜出.4 纳米之战仍在激烈厮杀.外媒称.三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备.又投入研发能取代[鳍式场效电晶体"(FinFET)的新技术.目前看来似乎较占上风.Android Aut...
半导体生产
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三星
EUV
GAAFET
4纳米
发布时间:2020-05-26
调查显示:芯片产业高层看好EUV前景
芯片厂商们预期在7纳米制程节点仍将采用现有的浸润式微影步进机.之后于某些制程步骤改用EUV.以降低对多重图形的需求.根据一项最新公布的调查结果.芯片产业高层对于极紫外光(extreme ultraviolet lithography.EU...
半导体生产
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芯片
EUV
发布时间:2020-05-25
次世代微影技术主流之争 EUV可望2014年进入量产
目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现.而身为深紫外光 (EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出.EUV技术最快于2014年可望进入量产.而应用存储器制程又将早于逻辑制程.他...
电路设计
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台积电
EUV
imec
微影技术
量产
制程
发布时间:2020-05-23
分析:450mm晶圆.EUV光刻.TSV都将延迟
半导体技术市场分析公司IC Insights近日发布的报告显示.按照他们的估计.450mm技术以及极紫外光刻技术(EUV)投入实用的时间点将再度后延. 据IC Insights预计.基于450mm技术的芯片厂需要到2015-2016年...
材料技术
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晶圆制造
光刻
EUV
450mm
TSV
发布时间:2020-05-16
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