光刻-EDA365

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32nm制程用沉浸光刻设备客户需求量剧增

据荷兰ASML公司高管透露.由于最近半导体厂商对沉浸式光刻设备的需求量剧增.著名光刻厂商ASML公司最近重新召回了先前辞退的700名员工.同时还招聘了数百名新员工.这名高管表示ASML公司还需要再增加300名员工.同...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

英特尔将花15亿美元采购光刻设备

据业界分析人士称.Intel 2011年在光刻技术设备方面的支出预计可达15亿美元左右. 巴克莱资本(Barclays Capital)指出.32nm工艺节点上.日本尼康是Intel光刻设备的唯一供应商.不过到了下一代22nm工艺.荷兰ASML ...

工艺设备

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英特尔
光刻

发布时间：2020-07-01

光刻技术--半导体工业的[领头羊"

半导体工业的[领头羊"是谁?历数过来.这个桂冠无疑是属于光刻技术的.历经50年.集成电路已经从60 年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10 亿个器件.在摩尔定律的指引下,半导体技术的集成...

技术百科

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放大器
光刻

发布时间：2020-06-16

中科院研制中紫外直接光刻设备取得突破

近日.一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功.该设备采用特有的高均匀.高准直中紫外照明技术.结合光敏玻璃材料.实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工....

技术百科

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发布时间：2020-06-05

微流控芯片的发展及制造工艺介绍

微流控芯片的发展微全分析系统的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz与Widmer提出的.当时主要强调了分析系统的[微"与[全".及微管道网络的MEMS加工方法.而并未明确其外型特征.次年Manz等即在平板微芯片...

单片机程序设计

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发布时间：2020-06-03

什么是EUV?为何如此昂贵

为什么三星.台积电.英特尔.这三家直接竞争对手企业争相投资ASML?EUV堪称半导体设备发展以来最昂贵的设备.一台售价高达9,000 万欧元.中芯国际也向阿斯麦下单了一台价值高达1.2亿美元的EUV(极紫外线)光刻机....

半导体生产

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光刻
EUV

发布时间：2020-06-02

光刻技术的争夺愈演愈烈

近期.半导体界掀起了一阵小小的光刻潮.原因就是浸润式光刻技术的开创者林本坚博士获得了2018年未来科学大奖-数学与计算机科学奖.并于近日进行了多次主题演讲.使半导体光刻这项高端而又略显神秘的技术形象地展示...

半导体生产

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发布时间：2020-05-29

助力高级光刻技术:存储和运输EUV掩模面临的挑战

随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限.极紫外 (EUV) 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中.对于 7 纳米及更小的高级节点.EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术.要在如此精细的尺寸下...

半导体生产

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发布时间：2020-05-29

Maskless Lithography公司推出用于PCB生产的直写光刻设备

硅谷一家由一群行业资深人士领导的新创企业--Maskless Lithography公司今天首次公开推出全新的可提高印制电路板(PCB) 生产门槛的直写数字成像技术.这种MLI-2027直写光刻系统首次在业内采用标准的[非激光直接成像...

半导体生产

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发布时间：2020-05-27

分析:450mm晶圆.EUV光刻.TSV都将延迟

半导体技术市场分析公司IC Insights近日发布的报告显示.按照他们的估计.450mm技术以及极紫外光刻技术(EUV)投入实用的时间点将再度后延. 据IC Insights预计.基于450mm技术的芯片厂需要到2015-2016年...

材料技术

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发布时间：2020-05-16

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