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助力高级光刻技术:存储和运输EUV掩模面临的挑战

引言随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限.极紫外 (EUV) 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中.对于 7 纳米及更小的高级节点.EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术.要在如此精细...

材料技术

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发布时间：2021-06-25

三星电子平泽工厂第二生产线开始量产

三星电子平泽工厂第二生产线正式开工.首发量产产品是采用了 EUV制程的 16Gb(吉字节)LPDDR5 移动 DRAM.开创业界先河....

嵌入式开发

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发布时间：2021-06-15

韩媒:韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得重大进展

据韩国媒体BusinessKorea报道.韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了极大进展.但并没有提到是哪一家企业.合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业....

技术百科

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发布时间：2021-04-27

供应链确认:中芯国际获美部分供应商供应许可.主要涵盖成熟工艺

与非网3月2日讯据媒体从供应链处获悉.中芯国际已获得部分美国设备厂商的供应许可.主要涵盖成熟工艺用半导体设备等....

技术百科

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发布时间：2021-04-23

台积电现已采购35台EUV设备.占ASML过半产量

台积电目前已采购 35 台EUV设备.占ASML过半产量.2021 年底采购总量将超过 50 台.相较之下.三星EUV设备采购量目前不到 20 台.此前.EUV光刻机制造商ASML首席执行官 Peter Wennink...

技术百科

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发布时间：2021-04-06

什么是光刻技术?EUV光刻技术目前主要面临哪三大挑战

近年来.在半导体行业.极紫外光刻(Extreme Ultra-Violet.以下简称EUV光刻)成为备受众多企业关注的光刻技术之一.前段时间.台湾积体电路制造股份有限公司宣布.已采用7纳米EUV工艺.今年.三星公司正式发布了7纳...

技术百科

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EUV
光刻技术

发布时间：2021-03-16

台积电取得ASML EUV微影设备以研发新工艺

TSMC与荷兰艾司摩尔(ASML)公司近日共同宣布.TSMC将取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet.EUV)微影设备.是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一. 这项设备将安装于TSMC的超...

工艺设备

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发布时间：2020-07-01

Cymer发布EUV光源技术路线图

光源对于光刻机的重要性不言而喻.没有光源的匹配.一切图形成像都无从谈起.从1986年开始.Cymer正式进入半导体产业.目前已有超过3500套光源安装在世界各地的光刻设备上.Cymer所占的市场份额已近70%.俨然已成为...

工艺设备

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EUV
Cymer

发布时间：2020-07-01

东芝展望EUV量产在即双图案化技术并用

东芝在荷兰阿斯麦(ASML)公司于2010年11月18日在东京举行的[ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010"会议上.展望了引进EUV(超紫外线)曝光技术进行量产的前景.东芝统管光刻技术开发的东木达彦表示[即将...

工艺设备

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东芝
EUV

发布时间：2020-07-01

ASML:预计2015年可发布首款量产型EUV机台

极紫外光(EUV)微影技术将于2015年突破量产瓶颈.传统浸润式微影技术在半导体制程迈入1x纳米节点后将面临物理极限.遂使EUV成为产业明日之星.设备供应商艾司摩尔(ASML)已协同比利时微电子研究中心(IMEC)和重量...

工艺设备

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EUV

发布时间：2020-07-01

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